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真空蒸發鍍膜法的工作原理

作者:奧固鴻已有:N多人關注

真空蒸發鍍膜法簡稱真空鍍膜，是在真空室中加熱蒸發容器中待形成薄膜的原材料，使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸汽流，入射到固體（稱為襯底或基片）表面，凝結形成固態薄膜的方法。由于真空蒸發法或真空蒸鍍法主要的物理過程是通過加熱蒸發材料而產生的，所以又稱熱蒸發法。
任何物質在一定溫度下，總有一些分子從凝聚態（固態或液態）變成氣態離開物質表面，但固體在常溫常壓下，這種蒸發量是極微小的。如果將固體材料置于真空中加熱至此材料蒸發溫度時，在汽化熱的作用下，材料的分子或原子具有足夠的熱震動能量去克服固體表面原子間的吸引力，并以一定速度逸出變成氣態分子或原子向四周迅速蒸發散射。
真空蒸發鍍膜法是在高真空中，將鍍膜材料加熱到高溫，相應溫度下的飽和蒸汽就在真空槽中散發，蒸發原子在各個方向的通量并不相等。基體設在蒸汽源的上方阻擋蒸汽流，且使基體保持相對較低的溫度，蒸汽則在其上形成凝固膜。
目前，采用真空蒸鍍法生產鍍膜玻璃均是間歇式生產，其工藝流程如圖所示。
真空蒸發鍍膜可分為電阻蒸發源蒸鍍法、電子束蒸發源蒸鍍法、高頻感應蒸發源蒸鍍法以及激光束蒸發源蒸鍍法四種方式。